光刻之父重出江湖!荷兰ASML称霸全球背后,离不开这位台湾专家圈

发布时间:2022-02-16 聚合阅读:
原标题:光刻之父重出江湖!荷兰ASML称霸全球背后,离不开这位台湾专家7月27日消息,中国台湾清华大学与包括台积电在内的10家半导体巨头合作的半导体研究学院,将...

原标题:光刻之父重出江湖!荷兰ASML称霸全球背后,离不开这位台湾专家

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7月27日消息,中国台湾清华大学与包括台积电在内的10家半导体巨头合作的半导体研究学院,将与2021年8月成立。

笔者了解到,该学院邀请来了被业界称为“浸入式光刻之父”、现任台湾清华半导体学院筹备处主任的林本坚,于未来担任首任半导体学院院长。

了解芯片领域的读者应该都听说过林本坚的大名,这个中国人堪称全球半导体界的一代传奇,仅凭一己之力推动了全球半导体产业的发展。

而且,现阶段荷兰光刻机巨头阿斯麦称霸全球的背后,也离不开这位重出江湖的中国台湾专家。

这一切的一切都是因为林本坚创造的浸润式光刻技术。

在2002年,芯片制程微缩到65nm时摩尔定律的延续突然陷入瓶颈。当年,业界所有人都在期望以空气为介质的157nm精度“干式”光刻技术的突破上。

为此,全球光刻机制造领域的头部企业投入了数十亿美元,但进展几乎为零。就在此时,就职于台积电的林本坚提出了利用水做介质的浸润式光刻技术。

相比传统的干式光刻技术,浸润式光刻技术不仅造价低廉、操作简单,而且芯片解析度比同精度的干式光刻高出两倍。

但这项颠覆传统的技术有些匪夷所思,故而业内很少有人愿意接受或尝试,尤其是那些在干式光刻技术上投入众多的厂商。

好在台积电愿意相信林本坚,而在台积电的支持下林本坚亲赴美国、日本、欧洲等国家和地区与一众光刻机制造商商讨有关浸润式光刻技术的应用。

但只有荷兰企业阿斯麦愿意尝试林本坚的想法,并于2003年展示了第一片用浸润式曝光机做出的成像。

阿斯麦发现一项颠覆性技术的优势后立即展开大规模量产,随着台积电、三星电子等越来越多客户的加入,阿斯麦迅速成长为全球光刻机制造领域的龙头企业。

得益于此,该公司还成为了目前全球范围内唯一一家能够实现EUV光刻机批量生产的半导体巨头。

由此可见,如果没有林本坚,阿斯麦不会用这么短的时间,甚至不可能在佳能等日本巨头的围攻下强势崛起。

当然,林本坚的浸润式光刻技术并非阿斯麦崛起的唯一因素,美国动用举国之力研发出来的极紫外光源技术,也是这家光刻机巨头垄断全球的依仗。